主要内容

TDR(L)—J60型光学晶体生长设备是在高真空、保护气体条件下以石墨电阻或以中频感应加热方法将原材料熔化，用直拉法生长红宝石、蓝宝石、YAG、化学计量比铌酸锂等光学晶体的设备。

技术水平      

TDR(L)—J60型光学晶体生长设备具有稳定可靠的低速运动性能、程序控制工作速度的变化功能、上称重计算机自动控制直径功能或下称重计算机自动控制直径功能，综合性能达到了国际先进国内领先水平，具有自主的知识产权。

主要技术参数

熔料量                                  10kg

晶体直径                         3"

加热功率                         30kW

最高加热温度                              2100℃

主炉室尺寸                                φ600×900mm

冷炉极限真空度                             3Pa

充气压力                                 0.08MPa

市场前景

目前，国内市场上已有20多台TDR(L)-J60型光学晶体生长设备，在光学晶体材料领域发挥着重要作用。

随着光显示（LED，TFT，PDP）、光存储（磁盘和光盘）、超高亮半导体照明技术的飞速发展，对高质量的光学晶体材料的需求越来越迫切，需求量越来越大，并向大直径方向发展，目前，市场对2"～3"的高质量光学晶体有较大的需求量。预计近几年市场对该类光学晶体生长设备的需求量回大增。

服务方式

  出售产品、其它形式的合作面议。