主要内容

TDL-FZ35型区熔单晶炉，是在高纯氮气环境中，用单匝高频感圈加热，对多晶体棒进行区域熔炼，达到提供并用FZ法拉制高纯无位错大直径(3″～4″)单晶硅的设备。获省级科技进步三等奖。

性能指标                            

该设备的主要性能指标如下：

晶体直径：3″～4″(Φ75～Φ100mm)；

晶体长度：1000mm；

高频发生器功率：60KW；

晶轴拉速范围：0.5～20mm/min；

使用范围及市场预测

区熔硅单晶系用于电力电子器件，及大功率高电压的集成元件关键半导体材料。尤其大直径区熔单晶为当前需求量大。现绝大部分采用进口材料，故年需求10台(年产27/台)是可行的。

投产条件及效益分析

该设备系机电一体化要求较高的综合设备除具有较强的机加工能力外，对高频，自动控制也有较高的要求。

现总售价72.50万元/台，批量生产(每批3～8台)利润可在15％左右。有较好的经济效益和社会效益。

服务方式

生产定型产品，外售。

转让费

  根据要求面议。